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周达成
美国伦斯勒理工学院教授
1977-1989年,周博士在纽约Schenectady的通用电气公司研发部工作。在头两年,他参与开发CVD工艺和表征掺杂的氧化锡和氧化铟薄膜,用于固态成像仪的透明电极应用。1979-1982年,他在难熔金属和金属硅化物方面的工作包括这些薄膜的沉积和等离子体蚀刻,以及将其纳入集成电路工艺和测试设备及逻辑电路的性能特征。从1982年到1989年,他参与了各种分立和可集成的MOS门控单极和双极器件(如MOSFET、IGBT和MCT)的设计和工艺开发。同时,他还参与了高压功率集成电路的工艺结构和集成。自1989年以来,他一直在纽约州特洛伊市伦斯勒理工学院的电气、系统和计算机工程系任教。